产品用途: 此款CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结,真空淬火退火,快速降温等工艺实验。 产品组成: CVD系统配置: 1.1200度开启式真空管式炉(可选配单温区、双温区)。 2.滑动系统分为手动、电动滑动,并配有风冷系统。 3.多路质量流量控制系统 4.真空系统(可选配中真空或高真空) 产品特点: 1 控制电路选用模糊PID程控技术,该技术控温精度高,热惯性小,温度不过冲,性能可靠,操作简单。 2 气路快速连接法兰结构,提高操作便捷性。 3 中真空系统具有真空度上下限自动控制功能,高真空系统采用高压强,耐冲击分子泵防止意 外漏气造成分子泵损坏,延长系统使用寿命。 4 (电动)滑动系统采用温度控制器自动控制炉体移动,等程序完成,炉体按设定 的速度滑动,因有滑动限位功能,炉体不会发生碰撞,待样品露出炉体后,通过风冷系统快速降温。 5 双管真空密封法兰,反映气体可以在内外管之间发生反应,冷却气体可通过内管,从而使内管外壁温度降低。
特点展示:
产品参数:
查看更多案例 >
米淇拥有现代化生产车间5000多平方米,具备研发、设计、生产、销售为一体的实验室科研用设备为主的实力生产厂家;电炉品类产品齐全,目前共有90余种实验室设备常规产品,常规品足量现货储备,快至3个工作日发货,定制品承诺按期交货;可根据客户对产品环境测试的需求,为客户量身定制性价比高的解决方案及非标定制服务。
公司前台 公司展厅