产品专业性:
PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
产品组成: PECVD系统配置: 1.1200度开启式双温区真空管式炉 2.等离子射频电源 3.多路质量流量控制系统 4.真空系统(可选配中真空或高真空)
产品特点:
生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。
产品特点: 电源范围广;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜 陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。
细节展示:
产品参数: 系统名称 1200℃双温区PECVD系统 系统型号 PECVD-12II-3Z/G PECVD-12II6-3Z/G zui高温度 1200℃ 加热区长度 420mm 610mm 恒温区长度 280mm 400mm 温区 双温区 双温区 石英管管径 Φ50/Φ60/Φ80mm Φ80/Φ100mm 额定功率 3.2Kw 4.8Kw 额定电压 220V 220V 温度控制 国产程序控温系统50段程序控温; 控制精度 ±1℃ 炉管zui高工作温度 <1200℃ 气路法兰 本实用新型在密封法兰与管件连接的地方采用多环密封技术,在密封法兰与管外壁间形成了密封,在管件外径误差较大的情况下密封仍然you效,该密封法兰的安装只需在第yi次使用设备的时候安装 气体控制方式 质量流量计 气路数量 3路(可根据具体需要选配气路数量) 流量范围 0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定 精度 ±1%F.S 响应时间 ≤4sec 工作温度 5-45℃ 工作压力 进气压力0.05-0.3Mpa(表压力) 系统连接方式 采用KF快速连接波纹管、高真空手动挡板阀及数显真空测量仪 规格 中真空 高真空 系统真空范围 10Pa-100Pa 1x10-3Pa-1x10-1Pa 真空泵 双极机械泵理论极xian真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S,出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw 真空分子泵理论极xian真空度 5x10-6Pa抽气速率1600L/S 额定电压220V 功率2Kw 信号频率 13.56MHz±005% 功率输出范围 5W-500W zui大反射功率 200W 射频输出接口 50Ω,N-type,temale 功率稳定度 ±0.1% 谐波分量 ≤-50dbc 供电电压 单相交流(187V-253V)频率50/60HZ 整机功率 ≥70% 屏幕显示 正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值 炉体外形尺寸 340×580×555mm 480×770×605mm 系统外形尺寸 530×2310×750mm 530×2310×750mm(不含高真空) 系统总重量 270kg 350kg
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