产品应用：

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应

在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成：

PECVD系统配置：

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统（可选配中真空或高真空） 

产品特点：

电源范围广；温度范围宽；溅射区域长；整管可调；精致小巧，性价比高，可实现快速降温，是实验室生长薄膜石墨烯，金属薄膜

陶瓷薄膜，复合薄膜等的理想选择，也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

细节展示：